gebrauchte Lithografie (Fotolithografie) in Südkorea

2014 CANON FPA-5510IX

• Hersteller: Canon
• Modell: FPA

Wafergröße: 8", 12" | Prozess: Stepper

PHOTO Thermo Electron

• Hersteller: Thermo Fisher Scientific

PHOTO TSK-03C-02-60

• Hersteller: PHOTO

SCREEN RF3S

• Hersteller: Screen
• Modell: RF3S

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

PHOTO SK-200W-BVPE

• Hersteller: PHOTO

Prozess: i-Line Fotospur(3C3D) | Wafergröße: 8 "

KARLSUSS RC16

• Hersteller: KARLSUSS

Prozess: SPIN COATER | Wafergröße: * | Versand: EXW

KARLSUSS RC16

• Hersteller: KARLSUSS

Prozess: SPIN COATER | Wafergröße: * | Versand: EXW

1995 DNS SK 80BW AVPE

• Hersteller: Dainippon Screen
• Modell: SK-80BW-AVPE

Wafergröße: 8 " | Versand: EXW

SCREEN DUOI

• Hersteller: Screen

Versand: EXW

1997 DNS SK-200W

• Hersteller: Dainippon Screen
• Modell: SK-200W

Wafergröße: 8 " | Prozess: 2C / 2D

LABOTECH HOT PLATE

• Hersteller: Labotech

Prozess: PHOTONIK | Wafergröße: * | Versand: EXW

NIKON S620D

• Hersteller: Nikon
• Modell: S620D

Wafergröße: 12" | Prozess: Excimer-Laser | Versand: EXW