gebrauchte Messtechnik / Inspektion (Halbleiter) in Südkorea

RUDOLPH FE-4D

• gebraucht

• Hersteller: Rudolph

Wafergröße: 8 " | Prozess: Fokus-Ellipsometer | Versand: EXW

2008 LASERTEC BGM 300

• gebraucht

• Hersteller: Lasertec

Wafergröße: 8 " | Prozess: SYSTEM ZUR ANALYSE UND VISUALISIERUNG DER WAFEROBERFLÄCHE | Versand: EXW

2003 RUDOLPH MP200

• gebraucht

• Hersteller: Rudolph
• Modell: MP200

Wafergröße: 8

2001 J.A.WOOLLAM VUV-VASE VU302(GENI)

• gebraucht

• Hersteller: J.A.WOOLLAM

Wafergröße: 8 " | Prozess: ELLIPSOMETER | Versand: EXW

JORDANVALLEY JVX6200

• gebraucht

• Hersteller: JORDANVALLEY

Wafergröße: 12"

2005 NANOMETRICS NANOMETRICS CALIPER_ULTRA

• gebraucht

• Hersteller: Nanometrics

Wafergröße: 12" | Prozess: Maske & Wafer-Inspektion | Versand: EXW

JEOL JWS-7515

• gebraucht

• Hersteller: Jeol
• Modell: JWS-7515

Details: Wafer-Inspektion | Sendung: Verpackung und Versand liegen in der Verantwortung des Käufers | Kommentare: JEOL JWS-7515 Waferprüfung

2006 HITACHI IS2700E

• gebraucht

• Hersteller: Hitachi
• Modell: IS2700SE

Wafergröße: 12" | Details: E-Strahl-Inspektion | Sendung: Verpackung und Versand liegen in der Verantwortung des Käufers | Kommentare: HITACHI IS2700SE E-Strahlprüfung

KLA TENCOR P-15

• gebraucht

• Hersteller: KLA-Tencor
• Modell: P-15

2006 Micro-Vu Vertex 420

• gebraucht

• Hersteller: Micro-Vu

Wafergröße: N/A | Versand: EXW

CAMECA EX300

• gebraucht

• Hersteller: Cameca

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

Hitachi S4700II

• gebraucht

• Hersteller: Hitachi
• Modell: S 4700

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

2011 RUDOLPH S3000A

• gebraucht

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl

2011 RUDOLPH S3000A

• gebraucht

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl

RUDOLPH S3000A

• gebraucht

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl