Halbleiter » Lithografie (Fotolithografie)

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gebrauchte Lithografie (Fotolithografie)

  • 1997 DNS SK-200W

    1997 DNS SK-200W

    • Hersteller: Dainippon Screen
    • Modell: SK-200W

    Wafergröße: 8 " | Prozess: 2C / 2D

    Südkorea
  • LABOTECH HOT PLATE

    LABOTECH HOT PLATE

    • Hersteller: Labotech

    Prozess: PHOTONIK | Wafergröße: * | Versand: EXW

    Südkorea
  • KARLSUSS RC16

    KARLSUSS RC16

    • Hersteller: KARLSUSS

    Prozess: SPIN COATER | Wafergröße: * | Versand: EXW

    Südkorea
  • KARLSUSS RC16

    KARLSUSS RC16

    • Hersteller: KARLSUSS

    Prozess: SPIN COATER | Wafergröße: * | Versand: EXW

    Südkorea
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