gebrauchte litho(foto)

2006 TEL LITHIUS

• Hersteller: Tokyo Electron - TEL
• Modell: Lithius

Wafergröße: 12" | Prozess: Entwickler von Beschichtungsanlagen mit hoher Zuverlässigkeit und Produktivität | Versand: EXW

2006 TEL LITHIUS

• Hersteller: Tokyo Electron - TEL
• Modell: Lithius

Wafergröße: 12" | Prozess: TRACK | Versand: EXW

KARLSUSS RC16

• Hersteller: KARLSUSS

Prozess: SPIN COATER | Wafergröße: * | Versand: EXW

KARLSUSS RC16

• Hersteller: KARLSUSS

Prozess: SPIN COATER | Wafergröße: * | Versand: EXW

PHOTO TSK-03C-02-60

• Hersteller: PHOTO

PHOTO Thermo Electron

• Hersteller: Thermo Fisher Scientific

2007 DNS SS-3000-AR

• Hersteller: Dainippon Screen
• Modell: SS-3000AR

Wafergröße: 12" | Prozess: Wafer Scrubber (4Back) | Versand: EXW

1997 DNS SK-200W

• Hersteller: Dainippon Screen
• Modell: SK-200W

Wafergröße: 8" | Prozess: 2C / 2D

LABOTECH HOT PLATE

• Hersteller: Labotech

Prozess: PHOTONIK | Wafergröße: * | Versand: EXW

2000 Nikon S204B

• Hersteller: Nikon
• Modell: S204

Wafergröße: 8

2000 Nikon S204B

• Hersteller: Nikon
• Modell: S204

Wafergröße: 8

TEL LITHIUS

• Hersteller: Tokyo Electron - TEL
• Modell: Lithius

Wafergröße: 12" | Prozess: EINZELBLOCK 2C/3D-SYSTEM | Versand: EXW

2014 CANON FPA-5510IX

• Hersteller: Canon
• Modell: FPA

Wafergröße: 8", 12" | Prozess: Stepper

SCREEN RF3S

• Hersteller: Screen
• Modell: RF3S

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

PHOTO SK-200W-BVPE

• Hersteller: PHOTO

Prozess: i-Line Fotospur(3C3D) | Wafergröße: 8"