gebrauchte Messtechnik / Inspektion (Halbleiter) in Südkorea

J.A Woollam VUV-VASE

• Hersteller: J.A Woollam

Wafergröße: 12" | Prozess: Ellipsometer | Versand: EXW".

2001 HITACHI S4700-I

• Hersteller: Hitachi
• Modell: S 4700

Wafergröße: 12" | Prozess: Rasterelektronenmikroskop | Versand: EXW

RUDOLPH Meta Pulse 3

• Hersteller: Rudolph

Wafergröße: 12" | Prozess: Messung der Filmdicke | Versand: EXW

RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12" | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl | Versand: EXW

RUDOLPH Meta Pulse 300

• Hersteller: Rudolph

Wafergröße: 12" | Prozess: METALL-THK-MESSUNG | Versand: EXW

KLA_TENCOR PROMETRIX FT750

• Hersteller: KLA_TENCOR

Prozess: SCHICHTDICKENMESSUNG | Wafergröße: * | Versand: EXW

JEOL JWS-7500E

• Hersteller: Jeol
• Modell: JWS-7500E

Wafergröße: 8 " | Prozess: WAFER-PRÜFSYSTEM | Versand: EXW

LINDA IN5-HI

• Hersteller: LINDA

Wafergröße: * | Versand: EXW

RUDOLPH FE-3

• Hersteller: Rudolph

Wafergröße: 8 " | Prozess: Fokus-Ellipsometer | Versand: EXW

2008 RAYTEX RXW-800

• Hersteller: RAYTEX

Wafergröße: 8 " | Prozess: EDGE SCAN | Versand: EXW

KLA TENCOR P-15

• Hersteller: KLA-Tencor
• Modell: P-15

2006 Micro-Vu Vertex 420

• Hersteller: Micro-Vu

Wafergröße: N/A | Versand: EXW

Hitachi S4700II

• Hersteller: Hitachi
• Modell: S 4700

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

2011 RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl

2011 RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl