gebrauchte Unterstützende Ausrüstung (Halbleiter) in Südkorea

WONIK IPS MAHA HP

• Hersteller: WONIK IPS

Wafergröße: 12" | Sendung: Verpackung und Versand liegen in der Verantwortung des Käufers | Kommentare: WONIK IPS MAHA HP

OXFORD 800+ RIE

• Hersteller: OXFORD

Wafergröße: 5" | Prozess: RIE

MM FS4060

• Hersteller: MM

Wafergröße: * | Versand: EXW

2006 SIGMAMELTEC SFG3000

• Hersteller: SIGMAMELTEC

Wafergröße: 12" | Prozess: FOTOMASKE | Versand: EXW

SUNGJIN SEMITECH ULTRA SONIC

• Hersteller: SUNGJIN SEMITECH

Prozess: Waffelreiniger Auto | Wafergröße: * | Versand: EXW

1996 NICOLET MAGNA 410 FT-IR

• Hersteller: Nicolet
• Modell: MAGNA 410 FT-IR

Prozess: Spektrometer | Wafergröße: * | Versand: Amperage

MARTEQ VERTEQ SUPERCLEAN 1600

• Hersteller: Verteq
• Modell: SUPERCLEAN 1600

Prozess: WÄSCHESCHLEUDER | Wafergröße: * | Versand: EXW

CARLZEISS AXIOTON

• Hersteller: CARLZEISS

Prozess: INSPEKTIONSMIKROSKOP | Wafergröße: * | Versand: EXW

LEICA Reichert-Jung,Kensington 300901

• Hersteller: Leica

Prozess: Wafer-Inspektionsmikroskop | Wafergröße: * | Versand: EXW

LEICA AG KENSINGTON 300901

• Hersteller: Leica
• Modell: KENSINGTON 300901

Prozess: Wafer-Inspektionsmikroskop | Wafergröße: * | Versand: EXW

LEICA AG KENSINGTON 300901

• Hersteller: Leica
• Modell: KENSINGTON 300901

Prozess: Wafer-Inspektionsmikroskop | Wafergröße: * | Versand: EXW

APPILED MATERIALS JEOL JWS-7500E

• Hersteller: Jeol
• Modell: JWS-7500E

Wafergröße: 8" | Prozess: Wafer Inspection System | Versand: EXW

CARLZEISS AXIOTON

• Hersteller: CARLZEISS

Prozess: INSPEKTIONSMIKROSKOP | Wafergröße: * | Versand: EXW

EXPEDIUS

Wafergröße: 12" | Prozess: DUMMY CLN | Versand: EXW

NIDEC IM 15

• Hersteller: Nidec-Shimpo

Prozess: Wafer-Inspektion | Wafergröße: * | Versand: EXW