Halbleiter » PVD- und CVD-Beschichtungen

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  • Vertrauter Verkäufer
    ULVAC SME-200E

    ULVAC SME-200E

    • Hersteller: Ulvac
    • Modell: SME-200E

    Toda, Japan
  • 2019 AMAT ENDURA 2 CH

    2019 AMAT ENDURA 2 CH

    • Hersteller: Amat
    • Modell: Endura

    Wafergröße: 12" | Versand: EXW

    Südkorea
  • 2019 AMAT ENDURA 2 CH

    2019 AMAT ENDURA 2 CH

    • Hersteller: Amat
    • Modell: Endura

    Wafergröße: 12" | Versand: EXW

    Südkorea
  • 2019 AMAT ENDURA 2 CH

    2019 AMAT ENDURA 2 CH

    • Hersteller: Amat
    • Modell: Endura

    Wafergröße: 12" | Versand: EXW

    Südkorea
  • 2019 AMAT ENDURA 2 CH

    2019 AMAT ENDURA 2 CH

    • Hersteller: Amat
    • Modell: Endura

    Wafergröße: 12" | Versand: EXW

    Südkorea
  • 1996 AMAT ENDURA 6" SYSTEM

    1996 AMAT ENDURA 6" SYSTEM

    • Hersteller: Amat
    • Modell: Endura

    Wafergröße: 6" | Prozess: ttn * 5ch | Versand: EXW

    Südkorea
  • 1994 AMAT ENDURA 6" SYSTEM

    1994 AMAT ENDURA 6" SYSTEM

    • Hersteller: Amat
    • Modell: Endura

    Wafergröße: 6" | Prozess: ttn * 5ch | Versand: EXW

    Südkorea
  • 2004 AMAT PRODUCER_SE

    2004 AMAT PRODUCER_SE

    • Hersteller: Amat
    • Modell: Producer SE

    Wafergröße: 12" | Prozess: CH_A_ACL/ CH_B_PE-SIN / CH_C_PE-TEOS | Versand: EXW

    Südkorea
  • 2000 AMAT P5000 CVD

    2000 AMAT P5000 CVD

    • Hersteller: Amat
    • Modell: P5000

    Wafergröße: 8" | Prozess: Delta TEOS 3ch + Sputter 1Ch | Versand: EXW

    Südkorea
  • 1998 AMAT P5000 CVD

    1998 AMAT P5000 CVD

    • Hersteller: Amat
    • Modell: P5000

    Wafergröße: 8" | Prozess: Delta Teos 3ch, SPUTTER 1ch | Versand: EXW

    Südkorea
  • 2000 AMAT P5000 SACVD

    2000 AMAT P5000 SACVD

    • Hersteller: Amat
    • Modell: P5000

    Wafergröße: 8" | Prozess: Delta TEOS 3ch + Sputter 1Ch | Versand: EXW

    Südkorea
  • 1996 AMAT P5000

    1996 AMAT P5000

    • Hersteller: Amat
    • Modell: P5000

    Wafergröße: 8" | Prozess: DxL 2CH | Versand: EXW

    Südkorea
  • 1994 AMAT P5000

    1994 AMAT P5000

    • Hersteller: Amat
    • Modell: P5000

    Wafergröße: 6" | Prozess: WXL | Kammer: 3 CH | Versand: EXW

    Südkorea
  • AMAT P5000

    AMAT P5000

    • Hersteller: Amat
    • Modell: P5000

    Wafergröße: 6" | Prozess: DELTA DLH | Kammer: 3 CH | Versand: EXW

    Südkorea
  • 2001 AMAT CENTURA 5200

    2001 AMAT CENTURA 5200

    • Hersteller: Amat
    • Modell: Centura

    Wafergröße: 8Zoll

    Gyeonggi-do, Südkorea
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Übersicht

CVD (Chemische Gasphasenabscheidung) und PVD (Physikalische Gasphasenabscheidung) sind fortschrittliche Beschichtungstechnologien zur Anwendung von Dünnschichten oder Beschichtungen auf verschiedenen Substraten. CVD beinhaltet chemische Reaktionen an der Oberfläche eines erhitzten Substrats, während PVD die physikalische Verdampfung eines Materials umfasst, das anschließend auf dem Substrat kondensiert. Diese Prozesse werden in Branchen wie Elektronik, Luft- und Raumfahrt und Automobilbau weit verbreitet eingesetzt, um Materialeigenschaften wie Härte, Verschleißfestigkeit und Korrosionsschutz zu verbessern.

FAQ (HÄUFIG GESTELLTE FRAGEN)

Was sollte ich beim Kauf einer CVD/PVD-Maschine beachten?

Berücksichtigen Sie die Kapazität der Maschine, die Kompatibilität mit den gewünschten Beschichtungsmaterialien und die spezifischen Anwendungsanforderungen. Überprüfen Sie auch den Zustand der Maschine, ihr Alter und ihre Wartungshistorie.

Wie stelle ich sicher, dass die CVD/PVD-Maschine sicher zu meinem Standort versandt wird?

Nutzen Sie einen spezialisierten Transportdienst, der Erfahrung im Umgang mit empfindlichen und hochwertigen Industrieanlagen hat. Stellen Sie sicher, dass die Maschine ordnungsgemäß verpackt und gesichert ist, um Schäden während des Transports zu vermeiden.

Wie lautet der Wartungsplan für eine CVD/PVD-Maschine?

Regelmäßige Wartung umfasst die Reinigung der Kammer, das Überprüfen und Ersetzen von Filtern, die Inspektion von Dichtungen und die Kalibrierung des Systems. Befolgen Sie die Richtlinien des Herstellers für detaillierte Wartungsintervalle, um eine optimale Leistung sicherzustellen.