gebrauchte Unterstützende Ausrüstung (Halbleiter) in Südkorea

2005 AXCELIS ES3

• Hersteller: Axcelis
• Modell: ES3

Wafergröße: 12"

VERTEQ SUPERCLEAN 1600

• Hersteller: Verteq
• Modell: SUPERCLEAN 1600

1998 ESPEC PHH-301

• Hersteller: Espec
• Modell: PHH-301

Auslassgröße: 1500*1210*1065 mm | Einlassgröße: 800*800*800 mm | Tempobereich: 20~300 ℃ | Stromspannung: 200V/3PH/50-60HZ | Standort: Etechsolution Lagerhaus M

1998 ESPEC PHH-301

• Hersteller: Espec
• Modell: PHH-301

Auslassgröße: 1500*1210*1065 mm | Einlassgröße: 800*800*800 mm | Tempobereich: 20~300 ℃ | Stromspannung: 200V/3PH/50-60HZ | Standort: Etechsolution Lagerhaus M

1992 DISCO DFG-82IF

• Hersteller: Disco
• Modell: DFG-82IF8

Prozess: Rotierende Flachschleifmaschine

MPD MSP-2300XPI

• Hersteller: MPD

Wafergröße: 12" | Details: Wafer-Abscheidung | Sendung: EXW

OLYMPUS MX80

• Hersteller: Olympus
• Modell: MX80

Wafergröße: 8", 12" | Prozess: Umfang | Versand: EXW

Nanometrics Caliper_MOSAIC

• Hersteller: Nanometrics
• Modell: CALIPERMOSAIC

Sendung: Verpackung und Versand liegen in der Verantwortung des Käufers | Kommentare: Nanometrischer Messschieber_MOSAIC

E-TECH SOLUTION INSPECTION SCOPE

• Hersteller: Kannegiesser-Etech

Prozess: INSPEKTIONSUMFANG | Wafergröße: * | Versand: EXW

1998 NICOLET MAGNA 560 FT-IR

• Hersteller: Nicolet
• Modell: MAGNA 560 FT-IR

Prozess: Spektrometer | Wafergröße: * | Versand: EXW

TTS DXL-800HS-CE

• Hersteller: TTS

Wafergröße: * | Versand: EXW

LEICA Reichert-Jung,Kensington 300901

• Hersteller: Leica

Prozess: Wafer-Inspektionsmikroskop | Wafergröße: * | Versand: EXW

GYE-12000 GYE-12000

• Hersteller: GYE-12000

Wafergröße: 8" | Versand: EXW

SVS MSX1000

• Hersteller: SVS

Wafergröße: 8" | Versand: EXW

GENUS Stratagem300

• Hersteller: GENUS

Sendung: Verpackung und Versand liegen in der Verantwortung des Käufers | Kommentare: GENUS Stratagem300