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gebrauchte Pvd Und Cvd Beschichtungen in Georgia, USA

2004 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
2006 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
AMAT DPS II
- Hersteller: Amat
- Modell: Centura
Wafergröße: 12" | Prozess: OXID | Kammer: 3C/H
Georgia, USA