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gebrauchte Pvd Und Cvd Beschichtungen in USA

2004 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
2006 Novellus C3 Geschwindigkeit XT
- Hersteller: Lam Research - Novellus
Wafergröße: 12" | Prozess: CVD | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
AMAT DPS II
- Hersteller: Amat
- Modell: Centura
Wafergröße: 12" | Prozess: OXID | Kammer: 3C/H
Georgia, USA
1996 AMAT CENTURA
- Hersteller: Amat
- Modell: Centura
Wafergröße: 8 " | Kammer: 3C/H
Massachusetts, USA
1995 AMAT P5000
- Hersteller: Amat
- Modell: P5000
Wafergröße: 6" | Kammer: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, USA
1999 AMAT P5000
- Hersteller: Amat
- Modell: P5000
Wafergröße: 6" | Kammer: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, USA
2002 AMAT WSIX
- Hersteller: Amat
- Modell: Centura
Wafergröße: 8 " | Kammer: 4C/H (TYP MIKROWELLE)
Massachusetts, USA
1996 AMAT P5000
- Hersteller: Amat
- Modell: P5000
Wafergröße: 8 " | Kammer: SACVD Delta TEOS 3K, SPUTTER 1K
Massachusetts, USA
1997 amat P5000
- Hersteller: Amat
- Modell: P5000
Wafergröße: 8 " | Kammer: SACVD Delta TEOS 3K, SPUTTER 1K
Massachusetts, USA
1995 AMAT P5000
- Hersteller: Amat
- Modell: P5000
Wafergröße: 8 " | Kammer: 2C/H
Massachusetts, USA
2000 AMAT DPS POLY
- Hersteller: Amat
- Modell: Centura
Wafergröße: 8 " | Kammer: 3C/H
Massachusetts, USA

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