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Wafergröße: 12" | Prozess: OXID | Kammer: 4C/H
Wafergröße: 12" | Prozess: OXID | Kammer: 3C/H
Wafergröße: 12" | Prozess: OXID | Hd785-5: 3C/H
Wafergröße: 12" | Prozess: OXIDE ETCH | Kammer: KAMMER NUR