gebrauchte Unterstützende Ausrüstung (Halbleiter) in Kalifornien, USA

Kinetic MEGA® Air Cabinet

• neu

• Hersteller: Kinetic

Kinetic MEGA® Blend

• neu

• Hersteller: Kinetic

LEICA POLYVAR SC

• gebraucht

• Hersteller: Leica
• Modell: POLYVAR SC

Prozess: POLYVAR SCOPE | Wafergröße: 8 " | Versand: EXW

2002 LEICA REICHERT POLYVAR SC

• gebraucht

• Hersteller: Leica
• Modell: REICHERT POLYVAR SC

Wafergröße: 8",12" | Prozess: WAFER-INSPEKTIONSMIKROSKOP | Versand: EXW

CARL ZEISS S-INDUSTRIAL

• gebraucht

• Hersteller: Zeiss

Wafergröße: 8 " | Versand: EXW

BROOKS MTX 2000

• gebraucht

• Hersteller: Brooks

Wafergröße: 8 " | Versand: EXW

HP HP 8903B

• gebraucht

• Hersteller: HP
• Modell: 8903B

Prozess: Audio-Analysator | Wafergröße: * | Versand: EXW

2003 IWATSU SS7840H

• gebraucht

• Hersteller: IWATSU

Prozess: Oszilloskop | Wafergröße: * | Versand: EXW

2003 IWATSU SS7840H

• gebraucht

• Hersteller: IWATSU

Prozess: Oszilloskop | Wafergröße: * | Versand: EXW

2003 BROOKS MTX 2000

• gebraucht

• Hersteller: Brooks

Wafergröße: 8 " | Versand: EXW

IWATSU SS7840H

• gebraucht

• Hersteller: IWATSU

Prozess: Oszilloskop | Wafergröße: * | Versand: EXW

2003 IWATSU SS7840

• gebraucht

• Hersteller: IWATSU

Prozess: Oszilloskop | Wafergröße: * | Versand: EXW

2003 IWATSU SS7840H

• gebraucht

• Hersteller: IWATSU

Prozess: Oszilloskop | Wafergröße: * | Versand: EXW

LEICA INM100

• gebraucht

• Hersteller: Leica
• Modell: INM100

Prozess: BETRIEBSANLEITUNG LICHTMIKROSKOP | Wafergröße: * | Versand: EXW

KRUSS DSA10-MK2

• gebraucht

• Hersteller: KRUSS

Prozess: MICRO SCOPE | Wafergröße: * | Versand: EXW