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Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das in Prozessen wie der Fotolithografie und Fotoätzung verwendet wird, um eine Musterbeschichtung auf einer Oberfläche zu erzeugen. Bei Bestrahlung mit einer spezifischen Lichtwellenlänge erfährt es chemische Veränderungen, die eine selektive Entfernung der belichteten oder unbelichteten Bereiche ermöglichen. Dies ist in der Halbleiter- und Mikroelektronikfertigung sowie bei der Herstellung von Leiterplatten von entscheidender Bedeutung.
Berücksichtigen Sie die Art des Photoresists (positiv oder negativ), die Lichtempfindlichkeit, die Auflösung und die Kompatibilität mit Ihrem Substrat und Entwickler.
Lagern Sie Photoresist an einem kühlen, dunklen Ort mit konstanter Temperatur. Es sollte fern von Licht und Feuchtigkeit aufbewahrt werden, um seine Empfindlichkeit zu bewahren.
Tragen Sie geeignete persönliche Schutzausrüstung, einschließlich Handschuhe und Schutzbrille. Sorgen Sie für gute Belüftung und vermeiden Sie direkten Hautkontakt.
