gebrauchte Messtechnik / Inspektion (Halbleiter) in Südkorea

2003 HITACHI RS4000

• Hersteller: Hitachi
• Modell: RS-4000

Wafergröße: 12" | Prozess: FEHLERÜBERPRÜFUNG SEM | Versand: EXW

2013 HITACHI RS6000

• Hersteller: Hitachi
• Modell: RS-6000

Versand: EXW

1991 NIKON 3

• Hersteller: Nikon

Wafergröße: 5" | Prozess: OPTI STATION

2010 RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12" | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl | Versand: EXW

RUDOLPH WV320 MACRO

• Hersteller: Rudolph

Wafergröße: 8" | Versand: diapositivas

2006 KLA CI T1X0

• Hersteller: KLA-Tencor

Versand: EXW

HSEB AXIOTRON 300

• Hersteller: HSEB

Versand: EXW

2010 HITACHI IS3200SE

• Hersteller: Hitachi
• Modell: IS-3200SE

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

JORDANVALLEY JVX6200

• Hersteller: JORDANVALLEY

Wafergröße: 12"

JEOL JWS-7515

• Hersteller: Jeol
• Modell: JWS-7515

Details: Wafer-Inspektion | Sendung: Verpackung und Versand liegen in der Verantwortung des Käufers | Kommentare: JEOL JWS-7515 Waferprüfung

2006 HITACHI IS2700E

• Hersteller: Hitachi
• Modell: IS-2700SE

Wafergröße: 12" | Details: E-Strahl-Inspektion | Sendung: Verpackung und Versand liegen in der Verantwortung des Käufers | Kommentare: HITACHI IS2700SE E-Strahlprüfung

KLA TENCOR P-15

• Hersteller: KLA-Tencor
• Modell: P-15

2006 Micro-Vu Vertex 420

• Hersteller: Micro-Vu

Wafergröße: N/A | Versand: EXW

Hitachi S4700II

• Hersteller: Hitachi
• Modell: S-4700

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

2011 RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl