Building Filters
- Vertrauter Verkäufer

DISCO DCS1440
- Hersteller: ディスコ
Toda, Japan
Wafer‑Reiniger entfernen Partikel, organische Rückstände, Metalle und Schichten von Halbleiterwafern in der Fertigung. Systeme reichen von Nassbänken und Einwafer‑Prozessoren bis zu Spin/Rinse‑Trocknern, Megasonic‑Reinigern und Plasmareinigern. Chemie, Temperatur, Agitation und DI‑Wasserreinheit werden streng geregelt, um Kontamination zu minimieren. Gebrauchte Geräte werden oft für Fab‑Erweiterungen, F&E und Lohnfertigung eingesetzt.
Prüfen Sie Wartungs‑ und Chemikalienprotokolle, Zustand von Pumpen, Dichtungen, Ventilen und DI‑Kreisläufen, Kontaminationsspuren, Steuerungssoftwareversion, Ersatzteilverfügbarkeit und durchgeführte Nachrüstungen. Stellen Sie die Prozesskompatibilität sicher.
Chemikalien entleeren und neutralisieren, DI‑Leitungen spülen, empfindliche Komponenten (Transducer, Sensoren) sichern, Elektronik entlüften, schwingungsdämpfend verpacken und klimaüberwachte Transporte nutzen. Gefährliche Stoffe deklarieren und qualifiziertes Rigging koordinieren.
DI‑Wasserqualität überwachen, Filter und Chemieleitungen nach Plan ersetzen, Pumpen und Dichtungen prüfen, Megasonic/Plasmaleistung validieren, Tanks und Nassbänke reinigen und Software/Protokolle aktuell halten. Herstellervorgaben beachten.