gebrauchte Messtechnik / Inspektion (Halbleiter) in Südkorea

2010 BRUKER JVX6200

• Hersteller: Bruker

Prozess: Metro | Versand: EXW

RUDOLPH FE-4D

• Hersteller: Rudolph

Wafergröße: 8 " | Prozess: Fokus-Ellipsometer | Versand: EXW

2008 LASERTEC BGM 300

• Hersteller: Lasertec

Wafergröße: 8 " | Prozess: SYSTEM ZUR ANALYSE UND VISUALISIERUNG DER WAFEROBERFLÄCHE | Versand: EXW

2003 RUDOLPH MP200

• Hersteller: Rudolph
• Modell: MP200

Wafergröße: 8

2001 J.A.WOOLLAM VUV-VASE VU302(GENI)

• Hersteller: J.A.WOOLLAM

Wafergröße: 8 " | Prozess: ELLIPSOMETER | Versand: EXW

JEOL JWS-7515

• Hersteller: Jeol
• Modell: JWS-7515

Details: Wafer-Inspektion | Sendung: Verpackung und Versand liegen in der Verantwortung des Käufers | Kommentare: JEOL JWS-7515 Waferprüfung

2006 HITACHI IS2700E

• Hersteller: Hitachi
• Modell: IS-2700SE

Wafergröße: 12" | Details: E-Strahl-Inspektion | Sendung: Verpackung und Versand liegen in der Verantwortung des Käufers | Kommentare: HITACHI IS2700SE E-Strahlprüfung

KLA TENCOR P-15

• Hersteller: KLA-Tencor
• Modell: P-15

2006 Micro-Vu Vertex 420

• Hersteller: Micro-Vu

Wafergröße: N/A | Versand: EXW

Hitachi S4700II

• Hersteller: Hitachi
• Modell: S-4700

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

2011 RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl

2011 RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl

RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl

RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW

ONTO WV320

• Hersteller: Onto

Wafergröße: 12" | Versand: EXW