gebrauchte Halbleiter in Südkorea

2003 RUDOLPH MP200

• Hersteller: Rudolph
• Modell: MP200

Wafergröße: 8

1997 LG SEMICON CLS-9002

• Hersteller: LG SEMICON

Prozess: 3. OPTISCHE INSPEKTION | Wafergröße: * | Versand: EXW

2001 J.A.WOOLLAM VUV-VASE VU302(GENI)

• Hersteller: J.A.WOOLLAM

Wafergröße: 8 " | Prozess: ELLIPSOMETER | Versand: EXW

1991 KLA SFS7200

• Hersteller: KLA-Tencor
• Modell: SFS7200

Wafergröße: 8 " | Prozess: Metrologie | Versand: EXW

2013 ATI OAK-1

• Hersteller: ATI

Versand: EXW

2005 VISTEC LWM9000

• Hersteller: Vistec

Wafergröße: 6" | Versand: EXW

2010 HITACHI IS3200SE

• Hersteller: Hitachi
• Modell: IS-3200SE

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

2010 HITACHI LS9000

• Hersteller: Hitachi
• Modell: LS9000

Versand: EXW

NANOMETRICS CALPER-ULTRA

• Hersteller: Nanometrics

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

RUDOLPH S3000

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000

Wafergröße: 12 | Versand: EXW

2011 RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl

2010 RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl

FEI FEM2010F

• Hersteller: FEI
• Modell: FEM2010F

Details: Doppelter Strahl | Sendung: Verpackung und Versand liegen in der Verantwortung des Käufers | Kommentare: FEI FEM2010F Doppelstrahl

2005 RUDOLPH MP200

• Hersteller: Rudolph
• Modell: MP200

2003 NANOMETRICS CALIPER_MOSAIC

• Hersteller: Nanometrics
• Modell: CALIPERMOSAIC

Wafergröße: 12" | Prozess: Überlagerung | Versand: EXW".