gebrauchte Halbleiter in Südkorea

2007 DNS SS-3000-A

• Hersteller: Dainippon Screen
• Modell: SS-3000

Wafergröße: 12 | Lieferung: EXW

DNS SS-3000-AR

• Hersteller: Dainippon Screen
• Modell: SS-3000

Wafergröße: 12" | Prozess: SCR | Versand: EXW".

1997 LG SEMICON CLS-9002

• Hersteller: LG SEMICON

Prozess: 3. OPTISCHE INSPEKTION | Wafergröße: * | Versand: EXW

2001 J.A.WOOLLAM VUV-VASE VU302(GENI)

• Hersteller: J.A.WOOLLAM

Wafergröße: 8 " | Prozess: ELLIPSOMETER | Versand: EXW

KLA TENCOR P-15

• Hersteller: KLA-Tencor
• Modell: P-15

1990 KLA SFS7200

• Hersteller: KLA-Tencor
• Modell: SFS7200

Wafergröße: 8 " | Prozess: Metrologie | Versand: EXW

2006 Micro-Vu Vertex 420

• Hersteller: Micro-Vu

Wafergröße: N/A | Versand: EXW

HSEB AXIOTRON 300

• Hersteller: HSEB

Versand: EXW

CAMECA EX300

• Hersteller: Cameca

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

Hitachi S4700II

• Hersteller: Hitachi
• Modell: S 4700

Wafergröße: 12" | Versand: EXW

DNS SU3100

• Hersteller: Dainippon Screen
• Modell: SU-3100

Wafergröße: 12 | Versand: EXW

2011 RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl

2007 DNS SS-3000-AR

• Hersteller: Dainippon Screen
• Modell: SS-3000

Wafergröße: 12" | Prozess: Wafer Scrubber (4Back) | Versand: EXW

2011 RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl

RUDOLPH S3000A

• Hersteller: Rudolph
• Modell: S3000A

Wafergröße: 12 | Versand: EXW | Prozess: Laser-Ellipsometrie mit fokussiertem Strahl